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電容薄膜規(guī)的應(yīng)情況介紹
電容薄膜規(guī)的應(yīng)情況介紹
更新時間:2016-09-26 點擊次數(shù):2586
電容薄膜規(guī)
要求高的應(yīng)用條件下,而快速的壓強(qiáng)測量
1、用于刻蝕,CVD,PVD,ALD半導(dǎo)體設(shè)備制造,如太陽能光伏行業(yè)的PECVD用的很多,刻蝕上一般用陶瓷型的CDG025D-X3比較多,抗污染性能比較好。一般國內(nèi)用的PECVD還有多晶爐上用的MKS的電容薄膜規(guī)622A/626A/627D和INFICON的CDG025D比較多,如德國Ruth&Rau公司的PECVD設(shè)備標(biāo)配產(chǎn)品為MKS的626B13TDE和627D01TDC1B,質(zhì)量流量計用的是1179BX23CR14VSPC1 800sccm/SiH4和1179BX5CR14NSPC1 2000sccm/NH3,國內(nèi)用的好多PECVD設(shè)備上用的是INFICON的CDG025D。
2、資料貯存和顯示器制造設(shè)備
3、工業(yè)真空設(shè)備
4、常用高精度真空測量
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加熱型薄膜規(guī)的七大優(yōu)點
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